substrato a film sottile superconduttore ad alta temperatura ossido di magnesio mgo substrato a cristallo singolo

mgo è un eccellente substrato monocristallino per film sottili di materiali ferromagnetici, fotoelettronici e superconduttori ad alta tc.
  • Oggetto numero:

    GS-C002
  • Pagamento:

    L/C、 Western Union、 D/P、 T/T
  • Origine del prodotto:

    Anhui, China
  • Dimensione massima:

    Dia60mm
  • orientamento:

    <100>、<110>、<111>
  • pacchetto:

    100 clean bag,1000 exactly clean bag
  • Dettagli del prodotto

  • Flusso di processo

  • Confezione

  • Trasporto

  • FAQ

breve introduzione
mgo è un eccellente substrato monocristallino per film sottili di materiali ferromagnetici, fotoelettronici e superconduttori ad alta tc.

parametro di capacità principale

metodo di crescita

fusione ad arco speciale

struttura di cristallo

cubico,

costante di cella unitaria

au003d4.130 Å

punto di fusione (℃)

2800

purezza cristallina

99.95%

densità

3.58 (g/cm3)

durezza

5.5(mohs)

espansione termica(/℃)

11.2x10-6

orientamento cristallino

<100>

trasmissione ottica

>90%(200~400nm),>98%(500~1000nm)

costanti dielettriche

εu003d 9.65

taglia

10x3,10x5,10x10,15x15,,20x15,20x20,

diam2" x 0.33mm diam2" x 0.43mm 15 x 15 mm

spessore

0.5 mm, 1.0 mm

lucidatura

singolo o doppio

orientamento cristallino

<001>±0.5º

precisione di reindirizzamento

±0.5°

reindirizzamento del bordo:

2°(speciale in 1°)

angolo del cristallino

dimensioni e orientamento speciali sono disponibili su richiesta

RA:

≤5Å(5µm×5µm)

pacchetto

100 sacchetti puliti, 1000 sacchetti esattamente puliti

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